一、低溫等離子除臭設(shè)備應(yīng)用于：
　　治理油煙粉塵領(lǐng)域;大型火力發(fā)電廠、卷煙廠、紡織廠、印刷廠、造紙廠、鋼鐵廠、水泥廠等。
　　治理廢氣、異味氣體領(lǐng)域;污水、垃圾處理廠、泵站、石化廠、化工廠、制藥廠、卷煙廠、香精廠、屠宰場等。
　　空氣凈化方面;醫(yī)院、餐飲、賓館、娛樂場所、車船，航kong候車室等公共場所、及辦公室、家庭、轎車、實驗室等
　　二、低溫等離子除臭設(shè)備的性能特點：
　　1、自動化：“低溫等離子”設(shè)備自動化程度高,工藝簡潔,方便.專人看管，遇故障自動停機(jī)報jing。
　　2、節(jié)能：運(yùn)行費(fèi)用低廉是“低溫等離子”處理1000M3/h臭氣，耗電量僅250W。
　　3、適應(yīng)范圍大：在高溫250℃,低溫-50℃的環(huán)境內(nèi),凈化區(qū)均可運(yùn)轉(zhuǎn),是在潮濕,空氣濕度飽和的環(huán)境下仍可正常運(yùn)行。
　　4、設(shè)備使用長：本設(shè)備由不銹鋼材，銅材、鉬材、環(huán)氧樹脂等材料組成，在酸性氣體中耐腐蝕。使用長達(dá)15年以上。
　　5、“低溫等離子”設(shè)備內(nèi)使用電壓在36伏以下。
　　6、設(shè)備組合：低溫等離子設(shè)備可以竄并聯(lián)混合應(yīng)用，在處理高濃度異味氣體時能發(fā)揮優(yōu)勢。
　　三、低溫等離子除臭設(shè)備工藝原理：
　　眾所周知，紫外線是由電磁波組成，其本身所帶有的能量與波長直接有關(guān)，波長越短，能量越大。通過采用D波段內(nèi)的真空紫外線，照射氣體或惡臭氣體分子，當(dāng)這些氣體分子吸收了這類紫外線光后，因紫外線光本身所帶有的能量，使氣體或惡臭氣體分子內(nèi)部發(fā)生裂解，化學(xué)鍵斷裂，形成游離狀態(tài)的原子或基團(tuán)。同時，混合氣體中的氧氣被紫外線光裂解形成游離的氧原子并結(jié)合生成臭氧。混合氣體中的水蒸氣被紫外線光裂解產(chǎn)生羥基，而這些生成的臭氧和羥基具有氧化性，可將廢氣分子裂解產(chǎn)生的原子和基團(tuán)氧化成H2O和CO2等的低分子化合物。